泻药，在下目前的知识储备不足以有效回答这个问题。
套一句老板们常用的开场白：
“我是来学习的”
说一下个人片面的认知
私以为前代的光刻机光学系统的难度和机械系统的技术难度都很高，例如物镜，实际上中国很早就有设计加工物镜的能力，但缺乏合规批产的能力，导致实际从业者太少，研发能力实际很弱。套刻等工艺对机械结构的重复精度和对准精度要求也很苛刻。
目前的euv光刻机，光源有难度，但应该不是最困难的，由于要规避传统意义上光学玻璃对euv的强吸收，大多只能用介质薄膜反射实现之前的物镜光学系统的功能，从而在光学系统设计，反射膜加工和图形生成上难度会前所未有的大。另一方面，随着工艺尺寸的减小，机械结构精度和对准精度自然也要求更高。
这是一类复杂的系统，精密，研发和后续成本高，且收益巨大，价格自然也高。
个人认为我们还是有机会的，虽然难度很大成本很高。困难的不是光刻机涉及的技术高不可攀，而是之前单搞不划算，这几年又被禁的太突然，未来几年我们都会比较被动。
